導致磁控濺射鍍膜機鍍膜不均勻因素哪些？

       磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些？導致磁控濺射鍍膜機不均勻的原因包括真空狀態、氬氣和磁場等三方面。

　　磁控濺射鍍膜機的主要工作過程是通過真空狀態下正交磁場讓電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積在工件表面成膜。

　　真空狀態就須抽氣系統控制的，每個真空鍍膜機設備的抽氣口都得同時開動并且力度一致，這樣就能控制好抽氣均勻性，若抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不可以均勻了，壓強對離子運動是存在一定影響的，除此之外，抽氣時間也得空子好，太短會導致真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有著真空計的存在，控制好不成問題。

　　磁場是正交進行運行的，但你要將磁場強度做到百分之一均勻是不太可能，一般情況下磁場強處，成膜的厚度就越大，相反就小，所以會導致膜層厚度的不一致，但在生產中，因為磁場的不均勻引起膜層不均勻情況卻非常見的，這是為什么呢？

　　原來磁場的強弱雖不好控制，但工件也在進行運轉，且是靶材原子多次沉積才能結束鍍膜工序，在一段時間內，雖某些部位厚，某些薄，但另個時間里，磁場強作用下原來薄的部位會沉積上厚的，在厚部位沉積上薄的，這樣反復多次，整個膜層最終成膜之后，均勻性還是很好的。

　　氬氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性影響，原理實際上和真空度差不多，因為氬氣進入，真空室內壓強會出現變化，均勻的壓強大小能夠控制成膜厚度均勻性。

      裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護金屬膜層的作用。今天我們就先來看看真空鍍膜機對底涂層有何要求。

1、對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力，熱膨脹系數相差小，不起反應，流平性能好。

2、具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應力小、耐熱性能好。

3、成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

4、與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

5、施涂性能良好。流平性能良好，有適當的黏度、固化時間短。