真空鍍膜設備的操作方法介紹

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜儀器，主要思路是分成蒸發和濺射兩種。真空鍍膜機的應用是很復雜的，用戶需要掌握一定的操作知識。下面小編就來具體介紹一下真空鍍膜機的操作方法，希望可以幫助到大家。

電控柜操作

1. 開水泵、氣源。

2. 開總電源。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。

4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和

高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。

操作

1. 總電源。

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

關機順序

1. 關高真空表頭、關分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時，再關維持泵。