真空鍍膜機蒸鍍塑料件的工藝

，來料檢查

　　2，干燥，待真空鍍膜機鍍件來料時含較多水分，需干燥處理3-5h，溫度為50-60oC; 3

　　3，上架，一般注塑時基本按真空鍍膜生產，因此待真空鍍膜鍍件表面一般油污較少經過一般的擦拭就可上架，但是來料油污多時需進行去污處理。方法是用清潔劑逐件刷洗，漂洗，烘干。油污嚴重時還需用清洗劑在50-600C，浸泡15-20min進行脫脂處理;

　　4、除塵，這道工序是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵之一，方法有兩種：一種是用吸塵器對準待真空鍍膜鍍件仔細地除塵，另一種是用高壓其“吹塵”的方法;

　　5、涂底漆，涂底漆是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵之二;

　　6、烘干，涂漆流平后需進行干固處理，方法有紅外線加熱法，電熱加熱法及紫外線(UV)固化法等，固化溫度為60-700C，固化時間為1.5-2.5h;

　　7、真空鍍膜，真空鍍膜是保證真空鍍膜鍍膜質量的關鍵。 真空鍍膜的鍍膜操作：待真空鍍膜鍍件上架并裝上鎢絲，然后入爐，檢查接觸是否良好，轉動正常，關真空鍍膜真空室，抽真空。 真空鍍膜蒸發鍍鋁，作為裝飾膜真空鍍膜蒸鋁時的真空鍍膜真空度控制在(1-2)X10-2Pa，真空鍍膜蒸發采用快速蒸發可減少氧化概率，又不會使真空鍍膜膜層的組織結構變粗。 冷卻充氣，真空鍍膜蒸鋁以后，即可充氣出爐;

　　8、涂面漆，保護真空鍍膜的金屬膜層，為著色工作做準備; 9著色，面漆徹底固化后可進行染色處理。

　　真空鍍膜設備有關問題答復

　　1. 建議參照生產量掌握真空鍍膜設備靶材厚度的消耗情況:

　　前提: 真空鍍膜設備靶材厚度相同。

　　比如目前貴廠主要是規格為1.7mm厚的海綿真空鍍膜設備鍍膜,相信目前已經明確大約生產多少平米時該換靶材，其他規格以此類推。

　　2. 真空鍍膜設備靶材厚度是根據磁場、電場、強度以及板材標準厚度等來確定。

　　可選厚度最佳范圍：磁場、電場、強度三者綜合指標來確定厚度最佳范圍。

　　選用不同厚度的真空鍍膜靶材時要注意調節極靴的位置。

　　3. 延時開真空鍍膜室門的原因

　　海綿厚度小于1.5mm時:由于濺射功率較低,,真空鍍膜完畢可立即開門。

　　海綿厚度大于1.5mm時:由于真空鍍膜設備濺射功率較高,真空鍍膜室內溫度比室溫高得多,不允許真空鍍膜完畢立即開門,目的如下:

　　a. 真空鍍膜室溫度比室溫高得多時,膜淀積后在真空鍍膜室內進行適當的保溫,使膜內部結構穩定,表面形成一層極薄的鈍化膜,使新淀積的膜盡量不暴露或少暴露于大氣中。

　　b. 真空鍍膜室溫度比室溫高得多時,膜淀積后立即開門,人無法操作。

　　4.在海綿能夠鍍透,其性能能滿足要求的前提下,盡量采用較低的功率,以使海綿基體的溫度不致過高并且省電,海綿基體的溫度與功率成正比,功率過大會造成海綿碳化,談不上產品質量

　　ZZ-560型射頻磁控濺射真空鍍膜設備

　　一、用途及特點

　　1. 為單室立式結構的高真空多功能真空鍍膜設備，射頻磁控濺射真空鍍膜、直流磁控濺射真空鍍膜的組合，既能滿足各類膜層的實驗研究，又能減少射頻輻射的機會，當濺射金屬材料時，可采用直流磁控濺射真空鍍膜;當濺射非金屬材料時,可采用射頻磁控濺射真空鍍膜.

　　2. 可真空鍍膜膜層:金屬單質膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金屬化合物膜.

　　二、主要技術指標和外部設施要求

　　(一) 技術指標:

　　1. 真空鍍膜室型式: 立式圓筒形、間歇工作

　　2. 真空鍍膜室尺寸: φ600×400

　　3. 極限真空度: 5×10-3Pa

　　4. 壓升率: ≤2Pa/h

　　5. 靶數量: 2個

　　6. 靶功率: 單靶2KW

　　7. 加熱溫度: 室溫~150℃

　　8. 工件最大尺寸: 垂直方向最大尺寸≤100mm

　　9. 總功率: 25KW

　　(二)外部設施要求: (用戶自備)

　　1. 電源: 380V

　　2. 氣源:

　　壓縮空氣: 凈化干燥,使用壓力0.4~0.6Mpa

　　高純氬氣: 99.999%

　　高純氮氣: 99.999%

　　其它氣體

　　3.冷卻用水

　　壓力: 1.5~2.5Kg/cm2、水溫<20℃

　　4.占地面積: 20m2

　　三、主要組成部分:真空鍍膜室、真空系統、充氣系統、氣動系統、水路系統、電控系統

　　1.真空鍍膜室

　　真空鍍膜真空室體、靶裝置、傳動系統、加熱器、觀察窗、靶擋板機構、隔熱屏、放氣閥.

　　1).真空鍍膜室體:為立式園筒形側開門不銹鋼結構.

　　2).靶裝置:靶體及其零部件、磁體、屏蔽罩

　　靶型式:園形平面靶

　　靶面有效尺寸:φ120

　　靶位排布:側面對放

　　靶特點:采取2個同心環磁體,每個同心環均由若干個磁柱

　　組成環狀,可拓寬靶刻蝕區和改善靶原子的沉積分布,從而提高膜厚的均勻度.

　　靶-基距:靶與基片的距離為50~80連續可調

　　3).傳動系統:電機、主軸、密封箱、軸承、水冷箱等等.

　　4).加熱器: 管狀加熱器

　　2.真空系統:

　　擴散泵: K-200T

　　羅茨泵: ZJ-30

　　旋片泵: 2X-8

　　冷阱: DN200

　　氣動高真空擋板閥: 3個

　　電磁真空帶充氣閥

　　波紋管: 3套

　　不銹鋼連接管道: (1Cr18Ni9Ti )若干套

　　泵架:

　　3.充氣系統:采用雙路質量流量控制器自動充氣.

　　流量顯示儀: D08-2C/ZM

　　質量流量控制器: D07-7A/ZM 2個

　　電磁截止閥: DJ2B-301 2個

　　充氣管: 00Cr17Ni14Mo2不銹鋼管

　　三通及四通若干:

　　真空膠管及托架:

　　4.氣動系統:氣動三聯件、電磁換向閥、閥板、氣管、氣嘴、支架等

　　5.水冷系統:進水總管、回水總管、支架、球閥、水管及附件、電接點壓力表.

　　6.電控系統:

　　靶電源、加熱控制電源、傳動系統控制、真空測量控制系統及各類儀表、按鈕、電控柜柜體等。

　　真空鍍膜Low-E膜特點

　　當今幾乎所有的真空鍍膜Low-E膜都是以薄的真空鍍膜銀膜為基礎。為了保持玻璃在可見光的高透過率并保護真空鍍膜銀膜免遭侵蝕，必須在真空鍍膜銀膜的二面加上高折射率材料的減反射和保護真空鍍膜膜層。為了進一步保護真空鍍膜銀膜，還要增加一個所謂“阻擋層”。目前在市場上真空鍍膜Low-E玻璃有各種不同的設計真空鍍膜膜系。

　　真空鍍膜Low-E玻璃的最顯著特點是它的低傳熱系數K，而且K值是隨著面電阻和真空鍍膜鍍層發射率降低而減少。當今以真空鍍膜銀為基礎的真空鍍膜Low-E鍍層能夠將發射率降低到ε=0.04，再加上真空鍍膜沉積無環境污染，使它在當今玻璃真空鍍膜鍍膜領域中占有主導地位。目前這種真空鍍膜Low-E玻璃的最大的真空鍍膜系統可以在45秒內生產一塊3.2米×6米的玻璃，相當于年產量為8百萬平方米。

　　最近國外又開發了一種可經受700℃高溫處理(如彎曲或回火)的真空鍍膜Low-E膜。為了確保這種真空鍍膜設備Low-E膜在高溫下具有良好的耐久性，要求每層真空鍍膜膜層都必須非常致密并且沒有空穴。

　　MAD—8B多弧離子真空鍍膜設備

　　一、用途及特點

　　1、本機是鍍制耐磨涂層的專用設備。

　　2、本機可鍍制膜層：金屬單質膜、氮化物等反應化合物膜，可作為耐磨、耐腐蝕及裝飾涂層。

　　3、工件膜層均勻。

　　4、本機采用進口PLC進行控制，可實現手動、自動功能。能對生產

　　工藝流程實時顯示，以監測整個真空鍍膜過程。

　　二、技術性能指標

　　1、 結構形式： 立式圓形、間歇工作

　　2、 體內腔尺寸： φ1000×1300

　　3、 極限真空度： 2.6×10-3Pa

　　4、 升壓率: 2Pa/h

　　5、 靶數量： 8個

　　6、 烘烤溫度： 400℃

　　7、 裝載量： φ6MM HSS鉆頭約1000支

　　8、 最大加工尺寸：φ500×1000

　　9、 控制方式： 手動/自動

　　10、 總功率： 70 KW

　　11、 占地面積： 40M2

　　三、主要部份及特點

　　本真空鍍膜設備主要部份包括：真空鍍膜室、真空系統、充氣系統、氣動系統、水冷系統、電控系統。

　　1、真空鍍膜室

　　真空鍍膜室主要由真空鍍膜室體、多弧靶、工件轉架及傳動系統、烘烤裝置、放氣閥等組成。

　　1.1、真空鍍膜室體:

　　立式圓筒結構，前開門，雙層水冷，材質均為不銹鋼，有利于提高真空鍍膜膜層質量，內設有不銹鋼屏蔽。鍍膜室體頂部設有備用孔，可供設備改型時備用,真空鍍膜室體外表面噴砂處理，呈亞光金屬銀色。

　　1.2、多弧靶：8套(Ti靶材)

　　靶材尺寸:φ65×32

　　1.3、工件轉架及傳動系統

　　該系統由轉架(定盤)、動盤、自轉軸、主傳動軸、密封箱、減速器、直流電機等部分組成。定盤及自轉軸裝拆方便，自轉軸上夾具可根據各種不同工件形狀用戶自行設計。具備公轉、自轉功能，速度可調,運轉平穩，保證真空鍍膜膜層均勻。

　　具備偏壓轟擊引入機構，確保真空鍍膜膜層的牢固度。

　　1.4、烘烤裝置：

　　真空鍍膜設備用鎧裝真空加熱器

　　2、真空系統

　　該系統由2X-70旋片泵、ZJ—300羅茨泵、K-500TD擴散泵及冷阱、電磁閥、氣動擋板閥以及它們的連接管道等組成。

　　K-500TD擴散泵采用國內最先進產品，具有抽速大，返油低等特點，有利于提高膜層質量。為了鍍膜時調節主抽空管道的通導，高閥和鍍膜室之間設置了手動可定位節流擋板

　　3、充氣系統：

　　采用雙路質量流量控制器控制進氣、可自動進氣。該系統的特點是：質量流量控制器來控制充氣量。使靶極在恒壓強上進行工作,充入的氣量恒定，這樣保證膜層的均勻性和質量。

　　4、氣動系統

　　本系統由電磁換向閥、氣動三聯件、閥板、管路等組成，負責提供所有氣動閥門的開啟及靶觸發用。電磁換向閥采用日本SMC原裝進口產品，以確保靶工作的可靠性。

　　5、水冷系統

　　該系統由進水總管、回水總管、支架、球閥、水管及其附件、電接點壓力表等組成。用于對多弧靶、擴散泵、羅茨泵、旋片泵、傳動系統等進行冷卻。當水壓不足時具備報警功能并切斷相關電源，以避免損壞設備。

　　6、電控系統

　　電控系統由進口PLC機、靶電源、傳動系統控制、真空系統控制、氣動系統控制、真空鍍膜測量系統控制、及各類儀表、按鈕、電控柜柜體等組成。

　　設備各部分之間及內部的邏輯關系及保護系統均由PLC完成。該系統抗干擾能力強,各部份出現故障能自動指示報警。