低溫鍍膜機離子裝置的作用及其性能分析

       目前國內各款式的多弧真空鍍膜機、磁控真空鍍膜機，多弧、磁控復合真空鍍膜機以及電子束蒸發真空鍍膜機(所謂的光學機)等基本上都是采用傳統的加熱烘烤裝置，根據膜層工藝烘烤裝置一般加熱到200℃至350℃，有時甚至高達600℃，鍍膜方式都是在高溫狀態下進行。這種加熱烘烤裝置有以下作用：

　　1、金屬制品、玻璃、陶瓷等制品除濕去水。

　　2、輔助鍍膜，適當地提高膜層附著力。

　　對于金屬、玻璃、陶瓷等制品來說倒還起作用,對于塑料、樹脂、亞克力等制品很容易熱變形，更不用說加溫了，一般稍薄的塑膠件60℃左右就變形，厚一點的塑膠件也只能頂到80℃，多弧真空鍍膜機以及電子束蒸發真空鍍膜機等不開加熱烘烤裝置溫度都要超過80℃。

　　傳統的真空鍍膜機鍍裝飾膜，鍍膜方式都是在高溫狀態下進行才不掉膜，但鍍件硬度變軟，溫度越高硬度降幅越大(如陽江不銹鋼刀硬度降幅不允許≥5度，因整個行業鍍膜都達不到硬度降幅為0的水平，所以刀具行業沒有辦法，只能定這個硬度降幅標準了)

　　傳統的真空鍍膜機另一弊病都是用轉架轟擊清洗結構以及霍爾離子源進行轟擊清洗及鍍膜，這兩種裝置離化效果遠遠達不到要求，因此只有用加熱烘烤來輔助鍍膜進行彌補，適當地提高膜層附著力，加熱烘烤本身就不會產生離子效應，提高膜層附著力的幅度是很有限的。

　　011真空技術工作室發明的新穎鍍膜工藝應用技術，在PVD沉積鍍膜時提供一種獨特的等離子來增強大面積離化效應而實現低溫離子鍍膜，去掉傳統的加熱烘烤裝置，節電30%以上，鍍膜時間節省10%以上，提高工效當然就省錢。

　　1、本低溫鍍膜離子裝置在鍍膜過程中為邊鍍膜邊轟擊,而且為大面積離子放電，高能量的離子打入工件表面，使膜層與工件間形成顯微合金層，提高結合強度，這樣更促進離子輔助鍍膜作用,大大地改善膜層的附著力及膜層的穩定性和均勻性,附著力特強。

　　2、由于離子充分發揮得當,離化效應好,鍍制塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品很容易鍍上膜,而且塑料、樹脂、亞克力等制品不易變形，塑料制品不噴涂底漆，直接在塑料制品鍍膜。

　　3、低溫鍍膜離子裝置很容易完成二次輝光或多次輝光。

　　4、由于低溫鍍膜,鍍件硬度不變，硬度降幅為0(如陽江不銹鋼刀及陽江陶瓷刀)。

　　5、離化效應好,有色金屬制品(如銅、鋁、鋅、鎂等)不需水鍍直接鍍制膜層。

　　6、發揮離化效應，陶瓷制品表面無論上釉還是不上釉，均可直接鍍制膜層。

　　7、大面積離化效應,水鍍都鍍不了的汽車煙灰缸在此鍍膜機上就很容易鍍上膜。

　　本低溫鍍膜離子裝置屬于真空鍍膜物理氣相沉積(PVD)離化效應技術，是真空表面處理設備中一種新穎鍍膜工藝應用技術，裝上它不但能大大地改善膜層的附著力及膜層的穩定性和均勻性，又能節電來又省時，一舉幾得當然是最好不過了。