真空鍍膜機薄膜均勻性

真空鍍膜機薄膜均勻性

1.厚度上的均勻性：也能夠理解為粗糙度，在光學薄膜的標準上看（也即是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜機的均勻性現已相當好，能夠輕松將粗糙度操控在可見光波長的1/10范圍內，也即是說關于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何妨礙。

2.化學組分上的均勻性： 即是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于標準過小而很簡單的發生不均勻特性，SiTiO3薄膜，假如鍍膜進程不科學，那么實踐外表的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的份額，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技能含量地點。

3.晶格有序度的均勻性： 這決議了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技能中的熱點問題。