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            • 真空等離子清洗原理

              真空等離子清洗原理等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激
              發布時間:2021-04-17   點擊次數:299

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              發布時間:2021-03-16   點擊次數:234

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              磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種磁控鍍膜機設備主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.現在的直流濺射(也叫二級濺射)
              發布時間:2020-10-26   點擊次數:380

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              發布時間:2020-10-12   點擊次數:324

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              怎么樣延長真空離子鍍膜機的使用壽命不管是何種機械,都有一定的使用壽命。使用的時間越久,各方面的性能越不如從前。但是我們可以通過一些保養方法,定期對機械進行清潔維護,這樣能有效延遲機械的老化,從而延長機械的使用壽命。真空離子鍍膜機也需要保養。
              發布時間:2020-07-21   點擊次數:140

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              磁控濺射鍍膜技術介紹磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機,其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下:陶瓷片
              發布時間:2020-07-08   點擊次數:213

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              PVD涂層性能特點1、鍍膜的屬性·金屬外觀·顏色均勻一致·耐久的表面,在各種基本的空氣和直射陽光環境條件下永久保持良好外觀?!ゎ伾铐?、光亮·經濟,可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本?!Νh境無害,避免化學中毒和VOC的散發。
              發布時間:2020-06-11   點擊次數:171

            • 詳解手機行業的PVD鍍膜技術

              詳解手機行業的PVD鍍膜技術PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD(物理氣相沉積)
              發布時間:2020-05-07   點擊次數:155

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              真空鍍膜檢漏有哪3個過程?背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結合的方法,真空鍍膜設備中多用于封離后的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。其檢漏過程基本上可分為充壓、凈化和檢漏三個步驟。(1)充壓過程是
              發布時間:2020-04-14   點擊次數:160

            • 真空鍍膜技術的一般術語

              真空鍍膜技術的一般術語1.1真空鍍膜vacuumcoating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。1.2基片substrate:膜層承受體。
              發布時間:2020-03-14   點擊次數:134

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